東莞凈化工程的無(wú)塵室是指將一定空間范圍內之空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內之溫度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給予特別設計之房間。 無(wú)菌室一般是在微生物實(shí)驗室內專(zhuān)辟一個(gè)小房間?？梢杂冒宀暮筒ＡЫㄔ?。
由于潔凈室內的工作內容大都有精細的要求，而且又都是密閉性房屋，所以對照明一向有很高的要求。這里有必要先說(shuō)明一下無(wú)窗潔凈室的照明方式：
這是指為增加某一指定地點(diǎn)（如工作點(diǎn)）的照度而設置的照明。但在室內照明由一般不單獨使用局部照明。
隨著(zhù)半導體IC設計規則從1．5~0．25μm的變化，相應地超純水的水質(zhì)除電阻率已接近理論極限值外，其TOC(總有機碳)、DO(溶解氧)、Si02、微粒和離子性雜質(zhì)均減少2-4個(gè)數量級。 
東莞凈化工程在當前的水處理中，各項雜質(zhì)處理的難易程度依次是TOC、SiO2、DO、電阻率，其中電阻率達到18MΩ·cm(25℃)是當前比較容易達到的。由于TOC含量高會(huì )使柵氧化膜尤其是薄柵氧化膜中缺陷密度增大，所以柵愈薄要求TOC愈低，況且現在IC技術(shù)的發(fā)展趨勢中，芯片上柵膜越來(lái)越薄，故降低TOC是當前和今后的最大難點(diǎn)，因而已成為當今超純水水質(zhì)的象征和重心。
東莞凈化工程據了解，在美國芯片廠(chǎng)中，50％以上的成品率損失起因于化學(xué)雜質(zhì)和微粒污染；在日本工廠(chǎng)中由于微粒污染引起器件電氣特性的不良比例，已由2μm的70％上升到0．8μm超大規模IC的90％以上，可見(jiàn)IC線(xiàn)條寬度越細，其危害越突出。相應的在IC封裝過(guò)程中超純水的重要性就顯而易見(jiàn)了。